Hanks Hydra Static多坩埚电子枪真空组件

Hanks Hydra Static系列多坩埚电子枪通过高效利用空间，实现了四种或更多不同材料的复杂共沉积工艺和共蒸发。Hanks Hydra Static系列多坩埚电子枪模块化磁性设计能够更加高效地生成电子束。Hyper-Unimelt 200 Hz 扫描技术可以消除隧道效应和源材料喷发问题。插入式发射器组件和扫描线圈组件使得蒸发源更易于维护。

Hanks Hydra Static系列多坩埚电子枪简单的灯丝校准、更高效的电子准直、最小化灯丝变形以及消除电子试验的优点，非常适合用于共蒸发！

满足：4,835,789；4,891,291；4,947,404

Hanks Hydra Static系列多坩埚电子枪主要特征：

· 可同时操作六（6）种不同材料（可根据要求提供其他坩埚设计）
· 全金属密封，兼容超高真空（UHV），基底压力测量值：2×10^-11 Torr
· Hydra™ 设计消除了相邻源之间的相互作用
· 磁性设计允许源头靠近，实现均匀涂层和材料相互作用
· 每个坩埚源都独立水冷，以防止蒸汽积聚
· 每个源坩埚有独立的扫描线圈，确保每个源的独立操作完整性，消除相邻源的串扰干扰
· 可拆卸坩埚烟囱设计，方便清理沉积物
· 水冷发射器基板和坩埚
· 提供10kW或15kW选项
· 坩埚容量：10cc、15cc、40cc（可根据要求提供定制尺寸）
· 270°光束偏转，灯丝外壳隔何颗粒暴露
· 动态坩埚设计可选
· 易于拆卸的发射器组件设计
· Thermionics的Hyper-Unimelt扫频设计（最佳低速或高速控制）
· 提供水平和垂直源法兰安装设计
· 消除光束弯曲
· UHV级扫描线圈随源头提供（200 Hz）
· 消除极片
· 简单的灯丝校准
· 更高效的电子准直
· 最小灯丝变形
· 消除电子尾巴
· 封闭的发射器组件可防止颗粒积聚
· 每个源独立水冷
· 设计消除串扰干扰

Hanks Hydra Static多坩埚电子枪真空组件