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DE200 PLD Deposition System 脉冲激光真空镀膜系统PLD镀膜设备

型号
DE200 PLD Deposition System
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E-Beam 蒸发薄膜沉积系统

Thermal 蒸发薄膜沉积系统

PLD 镀膜系统

OLED 薄膜沉积系统

ALD 薄膜沉积系统

Sputter Sources 磁控溅射阴极

DC/RF Power Supply 直流/射频电源

E-Beam Sources 电子束蒸发源

Thermal EVP Sources 热蒸发源

Deposition Materials 溅射靶材和蒸发镀膜材料

Sample Manipulator 样品台

Feedthroughs 电子穿导器件

Vacuum Valves 真空阀门

Vacuum Components 真空配件


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                  E-Beam 
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                  Thermal 
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脉冲激光镀膜系统 

                  Sputter Sources 
磁控溅射阴极

                  DC/RF Power Supply 
直流/射频电源

                  E-Beam Sources 
电子束蒸发源 

                  Thermal EVP Sources 
热蒸发源

                  Deposition Materials 
溅射靶材和蒸发镀膜材料

                  Sample Manipulator 
样品台 

                  Feedthroughs 
电子穿导器件

                  Vacuum Valves 
真空阀门 

                  Vacuum Components 
真空配件 



详细信息

DE200 PLD Deposition System

DE200脉冲激光薄膜沉积真空镀膜系统PLD

 

l         PLD UHV chamber

l         超高真空脉冲激光沉积腔室

l         STM UHV chamber

l         超高真空STM腔室

l         UHV Sample manipulator

l         超高真空样品操纵台

l         Target stage manipulator

l         多靶转台

l        Load Lock chamber

l        预真空进样室

 

:楚

,67832717

: de@deProducts.com

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