技术参数

1.蒸镀源Cell&电源：
•有机金属沉积蒸镀Cell 
    --zui大温度: 500℃ 
    --坩埚容积和材料: 2~200 ccQuartz, Graphite,etc 
    --包含ShutterCooling shroud (选件) 
    --电源:15A, 20V 
    --温度控制: PID control 
•金属沉积蒸镀Cell 
    --zui大温度: 1,400℃(up to 1,800 ℃) 
    --坩埚容积和材料: 2~120 ccAl2O3, BN, PBN, etc
    •包括shutter和Cooling shroud
    •电源: 30A, 80V
    •温度控制：ntrol : PID control

2.薄膜沉积控制：
•CygnusPC控制
    --控制沉积参数 
        ----多达6源同时沉积 
    --石英晶体振荡器 
        ----一个, 两个或六个
•膜厚测量 
    --石英晶体振荡器
        ----一个, 两个或六个

3.真空室：
•圆柱形腔体
    --直径: φ300 ~ 1,000 mm (Substrate : 1 inch to 370 ×400 mm) 
    -- 高度: 300 ~ 700 mm
•方形腔体 
    --根据客户需求定制

4.真空泵和测量装置：
•低真空: 干泵和convectron真空规
•高真空: 涡轮分子泵，低温泵和离子规
•超高真空: 离子泵和离子规

5.控制系统：PLC, PC with Touch Screen