基片尺寸：4，6，8，12英寸；

时间设定范围：1~999秒；

转速范围：100rpm~8000rpm(1%)；

应用：匀胶，甩胶，涂胶，涂膜等；

控制方式：手动控制，数字程序化控制和触摸屏控制；

真空性能：专业Oilless Vac & pressure Pump；

*；

又名：甩胶机,甩膜机,涂胶机,旋转涂膜机,匀膜机等；

的半导体设备供应商，多年来致力于掩膜对准光刻机和匀胶机研发与生产，并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域；该公司是目前世界上zui早将光刻机商品化的公司之一，拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力；并且其设备被众多*企业、研发中心、研究所和高校所采用；依优秀的技术、*的工艺和良好的服务，赢得了用户的青睐。

相关产品：

掩模对准曝光系统 / 光刻机（紫外/深紫外）：手动或自动化控制，基片尺寸4、6、8、12、25英寸，光束均匀性3%，对准精度zui高0.5微米；结合专业的楔形误差补偿技术，使得加工工艺更为完善；