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沉积速率监控/控制系统
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详细信息
| 主要特点
＊实时薄膜沉积速率、薄膜厚度和光学常数（n&k）分析，同时标准偏差统计分析； ＊自动程序化校准； ＊精密的实时反馈系统； ＊程序控制，可实时多层薄膜沉积监控和控制； ＊多Wafer监控功能； ＊Wafer基底旋转监控和控制功能； ＊所有参量原位实时检测； ＊操作装配简单便捷； | ||
*的薄膜沉积速率监控系统，采用无损的激光技术实时原位检测薄膜沉积速率、薄膜厚度以及光学常量（n&k），可广泛的应用于金属有机化学气象沉积MOCVD、分子束外延MBE、溅射系统Sputtering和蒸发系统等薄膜沉积过程的实时原位监控。 |
