硬化涂层膜厚仪是一款快 速、准确测量薄膜表征应用的模块化解决方案，要求的光斑尺寸小到几个微米，如微图案表面，粗糙表面及许多其他表面。它可以配备一台计算机控 制的XY工作台，使其快 速、方便和准确地描绘样品的厚度和光学特性图。品牌属于Thetametrisis。

Thetametrisis利用 FR-Mic，通过紫外/ 可见/ 近红外可轻易对局部区域薄膜厚度，厚度映射，光学常数，反射率，折射率及消光系数进行测量。

【相关应用】

1.高校 & 研究所实验室

2.半导体制造

3.(氧化物/氮化物， 硅膜, 光刻胶及其他半导体薄膜.)

4.MEMS 器件 (光刻胶, 硅膜等.)

5.LEDs, VCSELs

6.数据存储

7.阳极处理

8.曲面基底的硬镀及软镀

9.聚合物膜层, 粘合剂

10.生物医学(聚对二甲苯, 生 物膜/气泡壁厚度.)

11.还有许多…

【Thetametrisis膜厚仪特点】

1、实时光谱测量

2、薄膜厚度，光学特性，非均匀性测量， 厚度映射

3、使用集成的，USB连接高品质彩色摄像机进行成像

【Thetametrisis膜厚仪产品优势】

1、单击即可分析 (无需初始预测)

2、动态测量

3、包含光学参数 (n & k, color)

4、可保存测量演示视频录像

5、超过 600 种不同材料o 多个离线分析配套装置o 免费操作软件升级

【技术参数】

*测量面积(收集反射或透射信号的面积)与显微镜物镜和 FR-uProbe 的孔径大小有关

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【工作原理】

*规格如有更改，恕不另行通知, 测量结果与校准的光谱椭偏仪和 XRD 相比较, 连续 15 天测量的标准方差平均值。样品：1um SiO2 on Si., 100 次厚度测量的标准方差，样品：1um SiO2 on Si.

*超过 15 天的标准偏差日平均值样品：1um SiO2 on Si。

以上资料来自Thetametrisis，如果有需要更加详细的信息，请联系我们获取。