大型光谱椭偏仪SE200BM-M450具有450mm直径样品台，提供更为安全的样品操作和定位，具有250-850nm的波长范围，是美国Angstrom公司为大尺寸样品薄膜厚度测量而设计的美国进口光谱椭偏仪,Spectroscopic,Ellipsometer,具有高性价比椭偏仪价格和椭偏仪品牌。
与反射计或反射光谱技术不同的是，光谱椭偏仪参数Psi 和Del并非在常见入射角下获得。通过改变入射角大小，可获得许多组数据，这样就非常有助于优化椭偏仪测量薄膜或样本表面的能力，因此变角椭偏仪功能远远大于固定角椭偏仪。
改变椭偏仪入射角的方法有两种，一种是手动调节，一种是自动调节入射角，我们可提供两种模式的椭偏仪。
大型光谱椭偏仪特色
特别为大尺寸晶圆等样品薄膜测量而设计
易于安装，拆卸和维护
良好的光学设计
自动改变入射角，入射角分辨率高达0.01度
高功率光源适合多种应用
采用阵列探测器确保高速测量
测量薄膜膜堆的薄膜厚度和折射率
可用于实或在线监测薄膜厚度和折射率
具有齐全的光学常数数据库
提供工程师模式，服务模式和用户模式三种使用模式
灵活的工程师模式用于各种安装设置和光学模型测量
一键快速测量
全自动标定和初始化
精密样品准直界面直接样品准直，不需要额外光学
精密高度和倾斜调整
适合不同材料和不同后的样品衬底基片
2D和3D数据显示输出

大型光谱椭偏仪参数
波长范围：250-850nm
波长分辨率：1nm
测量点大小：1-5mm可调
入射角：0-90度可调
入射角分辨率：5度
可测样品大小：高达450mm 直径
可测样品厚度：高达2mm
测量薄膜厚度：0nm ---20um
测量时间：~1s/点
精度：~0.25%
重复精度：<1A