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OTF-1200X-PLD是一款多靶激光溅射混合雾化沉积管式炉,此款设备主要包括混气装置,加热炉,基片加热腔体、靶材溅射腔体和气压控制系统组成。可与准分子激光器配合,进行脉冲激光蒸发镀膜,而且靶材溅射腔体内可安装3块靶材,可依次对3中不同靶材进行激光脉冲蒸发。此款设备特别适合制作多元化合物薄膜。
技术参数
产品特点 |
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加热炉(对基片加热) |
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腔体 |
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真空度 |
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窗口
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压力控制系统 |
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混气系统 |
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等离子射频电源(可选购) |
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质保期 | 一年质保期,终生维护(不包括密封圈、石英腔体和加热元件) |
仪器尺寸 | 1300mm*1260mm*820mm |
质量认证 |
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