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氨逃逸在线监测系统技术指标:
1、测量方法:激光吸收光谱( TDLAS)
2、测量组分及量程:NH3:0-10ppm (MIN ) 0-100% ( MAX )
3、示值误差:±2%F.S.
4、重复性:±2%F.S.
5、响应时间:≤90S
6、零点漂移:2%F.S./7d
7、量程漂移:2%F.S./7d
8、防护等级:IP65
9、模拟接口:4路4-20mA输出(可配置,带载能力<800欧)
10、2路4-20mA输入(可灵活配置,100欧负载)
11、继电器输出:14路,可配置,DC30V2A
12、开关量输入:6路,可灵活配置
13、通讯接口:l路RS232,l路RS485,支持Moddbus协议
14、电源:220±l5%VAC/2KW
15、样气流速:1.5±0.1 L/min
16、环境温度:-20℃-50℃
17、环境湿度:0%-95%RH
氨逃逸在线监测系统采用分级吹扫排放,具有强大的再生能力。因此能保证系统取样探头与过滤装置常期可靠运行。取样探头以及预处理装置在正常工况下可保5年不堵不换。
1、全过程PLC自动控制
系统实现全过程有稳定可靠的PLC自动控制,完成系统的自动取样、反吹、备线以及故障诊断等功能。
用户可通过分析机柜面板实现系统自动运行与手动维护的状态操作
2、快速抽气单元
由抽气泵、压力检测器、旁路流量计组成,抽气泵将被测样气快速抽到分析柜并稳流后通过旁路流量计加速排放,若取样压力达不到额定范围,PLC将会发出报警信号。
3、预处理单元的自动清扫功能
该系统会定期自动进行反吹,将滤留下的烟尘和冷凝水清扫干净,同时启动另一套取样线, 实现无扰动切换。待吹扫完毕后,进入预备状态,等待下次投入运行。
4、分级排放具有强大的系统
再生能力系统采用分级吹扫排放,具有强大的再生能力。因此能保证系统取样探头与过滤装置长期可靠运行。取样探头以及预处理装置在正常工况下可保3年不堵不换。
5、快速、准确的取样真实反应气体成分含量
系统采用大流量加速定排的方法,以提高系统流速,采集真实样气。为回路的调节控制提供实时、真实的气体含量。系统适用条件:
1.取样探头安装在高炉重力(旋风)除尘出口水平煤气管道
2.样气温度:≤600℃
3.样气含水量:≤30%VOL
★4.样气含尘:≤200g/Nm3
★5.样气压力:0.05MPa~0.4MPa
环境条件:
1.环境温度:+5~45℃
2.相对湿度:≤90%
3.大气压:60-108KPa
4.运输及存储温度:-25~65℃
介质条件:
1.工作电源:220VAC 50HZ 5KVA(不含增压泵电源)
2.工作气源:洁净氮源≥1.6MPa 30NM3/24H(无高压氮源可选用氮增压系统)
3.工业净化水≥0.6MPa 4T/24H
氨逃逸在线监测系统应用与系统特点:
1) 采样预处理装置应用我司研发成果,保证气体流通的顺畅。
2) 取样更具代表性:采样点插入烟道核心区域或辐射状多点采样。
3) 旁路测量不受现场震动等环境因素的影响。
4) 非常方便通入标准气体,可以随时标定及验证。
5) *采用我司研发成果,锁定测量激光束的步长,防止数据漂移。
应用:
1.钢铁:高炉煤气(CO, O2,CH4)、转炉煤气(CO,O2)、电除焦/尘(CO,O2)、热风炉(O2)……
2.石油化工:炼油厂催化烟气(CO, O2)、乙烯(CH4)、尾气回收(O2)……
3.化工:MDI/TDI(O2), PTA尾气(O2), 甲醇(CO, O2), 醋酸(O2)……
4.煤化工:煤气安全监测(CO, O2)、……
5.合成氨:NH3, O2……
6.电力:DeNOx(NH3)控制,燃烧控制(O2/T)……
7.垃圾焚烧:排放(HCl,HF)
8.有色金属:铝厂(HF)、铜厂(O2)
9.制药:工艺控制(NH3,O2)
10.内燃机:DeNOx研究(NH3)
11.水泥:CO,O2
激光光谱测量原理,用于过程控制的紧凑型激光二极管光谱分析仪。根据不同的气体组分具有各自特定的光吸收,适用于快速和无干扰地测量气体浓度或者过程中的气体温度或废气,也可以用在一些极其恶劣的测量环境中。无交叉干扰的远程测量;测量速度快;控制器和激光探头之间信号光纤传输,测量组分:CO、CO2、O2、HCL、NH3、HF、H2O等。
主要技术特点及性能:
1.现场测量,不需要气体采样设备
2.内置的自动标定
3.测量长度:1~12m
4.模拟输出:4~20mA
5.测量精度:<2%
6.中心单元和测量点之间的距离为1000米
7.可同时测量三个测量点
8.气体温度可以高达1500℃
9.应用:过程控制;DeNOX优化;燃烧控制;排放监测;过滤器优化等
ULTRAMAT6型单通道或双通道红外气体分析仪采用交变NDIR双光束测量原理来高度选择性地测量一些红外吸收波段在2~9μm范围内的气体(CO、CO2、NO、SO2、NH3、H2O、CH4以及其它碳氢化合物。