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对于使用常用热蒸发技术非常难蒸发的材料,电子束蒸发是一种有效的蒸发手段.通过高能电子束射向靶材来升高靶材温度.相比于通常辐射或间接电阻加热方式,使用这种方式来达到温度没有本质的限制。
我司提供的这款电子束蒸发源是由高质量，与高真空兼容材料构成，并且可以烘烤至250℃。
电子束蒸发源-真空组件
应用领域：
表面科学
金属薄膜接触脚
MBE掺杂应用
型号参数：
多种不同型号提供不同功率的电子束蒸发源，最高500W，甚至按照客户需要提供更高功率的电子束蒸发源。
提供Flux电流监控，监控蒸镀速率。
坩埚容量小，节约靶材，提供最小0.21 mm3，最大1000 mm3的坩埚。
在高真空中，可以烘烤至250℃。
自动化软件控制；
手动/马达驱动挡板；
占用腔体空间小
冷却水流量小
