匀胶机是高品质、全NPP POLOS单晶片，为MEMS、半导体、PV、微流体域等域的研发和小批量生产而设计。适用于所有典型的旋涂。工艺：清洁、冲洗/干燥、涂层、显影和蚀刻。

匀胶机非常适合处理从直径为 2.5  毫米到 160 毫米/ 260毫米的小碎片或尺寸为100x100 毫米或 150x150  毫米的方形样品的各种基材。系统包括带注射器支架的透明盖子。直径可达 300 毫米。 这些装置通过易 于使用、可拆卸的彩色触摸屏进行操  作，提供直观的编程和配方存储。可 以选择添加各种喷嘴、超音速清洗和  分配线。所有旋涂机都标配有夹头。标准单元为NPP材料，PTFE单元为PTFE。SPIN150i 适用于长达 150 毫米的基 材，包括免费的真空吸盘 A-V36 和 片段适配器 D-V10。

规格

1、可编程 CW 和 CCW 以及搅拌旋转

2、带传感器联锁的自动安全盖锁

3、速度 0 rpm - 12,000 rpm，精度 +/- 0.1 rpm

4、加速/减速 1 - 30,000 rpm/sec，每步可选

POLOS Advanced 系列规格

1、带传感器联锁的自动安全盖锁

2、自动顺序或平行化学品分配

3、多达 6 个喷嘴，每个喷嘴可独立编程