离子溅射镀膜仪
离子溅射镀膜仪
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EMS550离子溅射镀膜仪

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11 1

具体成交价以合同协议为准
2021-02-03 11:02:10
3162
属性:
应用领域:医疗卫生,化工,生物产业,石油;
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医疗卫生,化工,生物产业,石油
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桑戈国际贸易(上海)有限公司

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产品简介

离子溅射镀膜仪
什么是离子溅射镀膜?在阳极与阴极之间使用合适的气体(常用的是氩气)和电压,当出现辉光放电时,阴极材料在气体离子的轰击下将侵蚀目标材料,其结果是溅射出来的原子(阴极材料)将在样本(通常样本固定于阳极上)表面形成一层薄膜,均匀分布在样本的表面,这个过程就叫离子溅射镀膜。

详细介绍

离子溅射镀膜仪

    什么是离子溅射镀膜?在阳极与阴极之间使用合适的气体(常用的是氩气)和电压,当出现辉光放电时,阴极材料在气体离子的轰击下将侵蚀目标材料,其结果是溅射出来的原子(阴极材料)将在样本(通常样本固定于阳极上)表面形成一层薄膜,均匀分布在样本的表面,这个过程就叫离子溅射镀膜。

    阴极材料通常使用金,习惯称之为金靶,故离子溅射镀膜仪常常又称喷金仪、离子溅射镀金仪、离子溅射喷金仪等等。

    EMS公司提供系列产品,型号有EMS500、EMS550、EMS575X、EMS575T、EMS650、EMS650T、EMS675、EMS3000等等,下面我们将一一列出传品的详细参数供大家选择使用。

 

一、EMS550和EMS500   

    EMS 550具有旋转样品台,可倾斜,适合各种样品。参数可预设,全自动控制保证获得准确的镀层厚度。 低电压溅射、冷溅射、细颗粒等功能的使用,大大提高了工作效率。腔室直径为165 mm(6英寸),非常方便装载及移走样品。 仪器装有60mm直径、0.1mm厚的金靶(可选)。可选靶材包括金/钯,铂/钯和铂。 各种功能都集中设计在仪表板上,使用方便,满足不同学科的用户使用要求。 溅射参数可预设,包括气体放气针阀(此阀为电磁阀),一旦设置,就不需要再调节。溅射头互锁,系统可选配EMS250镀碳附件。

    EMS 550本仪器为全自动操作,可控制独立的真空泵。EMS500是EMS550的手动版本,其样品台不带自动旋转功能,其它参数与550*相同。下图为EMS550的外观图片:

<strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong>

性能特征:

· 旋转且可倾斜样品台

· 高质量镀层厚度(2nm 金膜).

准确的可重复性能

均匀沉积厚度

复合样本固定器

· 全自动控制

低耗冷却系统,无需冷却样本及样品台

低压溅射

20nm(或20埃)

微电子控制

聚碳酸脂安全壳体

 


仪器参数:

仪器尺寸

450mm(W) x 350mm(D) x 175mm(H)

工作腔室

硼硅酸盐玻璃: 165mm(Dia.) x 125mm(H)

安全罩

聚碳酸酯

重量

18Kg

靶材

60 mm 直径 x 0.1mm 厚(金靶为标准靶材)

样品台

60mm(Dia.) ,靶面距在25mm-45mm之间可调

真空泵工作范围

ATM-1x10-2 mbar

溅射电流

0-50mA

溅射镀膜时间

0-4 minutes

沉积速率

0-25nm/分

电源配置

230 volts 50Hz (6 amp Max incl pump)

 

二、EMS575 HIGH RESOLUTION SPUTTER COATER(EMS575X和EMS575T)

    EMS-575T是一款涡轮泵双头高分辨率喷金仪。EMS-575T样本放置在旋转样品台上(the rotary stage),盖好盖子(the chamber lid),按下启动按钮,涡轮分子泵开始加速,5秒钟后,机械泵开始启动,同时十秒气体排空程序启动,两个泵同时运行确保一个高真空。当涡轮泵加速,它的速度由柱状图来标示,到达速度的一半时,真空计扭至自动状态。当腔内气体压降为10-4 mbar,排气开始,腔内气压维持在1 x 10-2 and 1 x 10-3 mbar之间,排气的蕞后阶段,靶材按照预订镀膜时间开始喷镀。镀膜需要两种不同金属的,不需要关泵,继续溅射另一种金属。喷镀完成后,两个泵停止,排气阀排气。 

    仪器质保期2年。模块化的单元结构使得仪器维护方便,摘掉问题模块,换上无问题的模块,仪器即可很好的运行,一点不会耽误实验进程。

性能特征:

· 全自动一键式操作,微处理器数字控制方式,可预设参数

· LCD屏实时显示状态参数

· 质保期:标准保修期为一年

· 高分辨率精细镀层(不超过0.5nm的铬颗粒大小)

· 薄金属镀层,典型5nm厚

· 涡轮分子泵

· Peltier冷却双溅射头,无需冷却水

· 双溅射头:一次真空条件下,可顺序溅射两种不同的材料,对于需要依次喷镀两种金属的样品特别适用

· 磁控溅射靶源设计

· 旋转机械泵为备用泵,机械泵为外部安装式

<strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong>

仪器参数:

仪器尺寸

450mm(W) x 350mm(D) x 175mm(H)

工作腔室

硼硅酸盐玻璃: 165mm(Dia.) x 125mm(H)

加不锈钢底座

110mm(Dia.) x 115mm(H)

重量

42Kg

靶材

54mm(Dia.) x 0.2mm(Thick) (标准铬靶材和金靶材)

样品台

60mm(Dia.) ,以60 r.p.m 旋转,一定的倾斜度

真空泵工作范围 (Penning)

ATM to 1x10-7 mbar,镀膜腔体极限真空度10-7 mbar

操作真空

1x10-3 mbar to 1x10-4 mbar

溅射电流

0-175mA

溅射时间

0-4 minutes

功率

1000v at 100 ma, 100 watts

沉积速率

30nm/min at 100ma

涡轮分子泵

60 litres/Second (Ultimate vacuum 1x10-8 mbar)

电源配置

230 volts 50Hz (6 amp Max incl pump)

Services

Argon ­ Nominal 4 psi

真空泵(推荐配件)

附带真空管和油气过滤器



三、EMS650和EMS650T

    EMS 650配套装有直径60mm、厚度0.1mm的金靶(用户可以选择其它材质的靶材);面板式控制,蕞佳的人性化设计;溅射参数可预先设置,包括控制排气的电磁阀(自动控制),可以获得准确的可重复的镀膜厚度;溅射头互锁,EMS 650和EMS 250镀碳配件通用;EMS 650可控制独立的真空泵。EMS 650T是在EMS 650基础上加装了一个功率为60L/秒的涡轮增压泵,能够获得更高更洁净的真空。

 

性能特征:

  全自动控制

  低能冷却系统((功率是6W)

  低电压溅射(100V,DC;每分钟温度升高不到2°C)

  镀膜厚度准确(2nm金粒)

  准确的可重复性

  镀膜厚度20nm或200A(扫描电镜)

  微电子控制

  三个靶台同时溅射

  聚碳酸脂安全外壳

产品参数:

 

仪器尺寸:

450mm(W) x 350mm(D) x 175mm(H)

工作腔室

硼硅酸盐玻璃: 225mm(Dia.) x 125mm(H)

重量:

24Kg

靶台:

3 x 60mm Dia.x0.1mm 厚

旋转样品台:

155mm Dia. 距离靶台40 to 50mm可调

真空范围:

ATM ­1x10-2 mbar

镀膜电流范围:

0-100mA

镀膜速率:

0-20nm/minute

溅射镀膜时间:

0-4 minutes

电源:

230 volts 50Hz (蕞大8 amp 包括泵)

维护:

氩气 ­ 通常 4 psi

真空泵(推荐)

整套真空泵软管和油气过滤器135L/Min

 


 

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