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ZK-10-16小型高温高真空电阻炉采用用精密数显程序控温仪控温，能实现炉温的自动程序升降或手动升降温。采用空压机+气动活塞实现试样托台的上下升降及炉门密封。由二级真空机组对炉膛进行抽真空，可实现样品的真空烧结。同时也可注入适量保护气氛或反应气氛作气氛烧结。配置所需坩埚后可用于常规真空烧结试验或真空熔炼。设备广泛应用于结构陶瓷、功能陶瓷、生物陶瓷、人工晶体、复合材料等的烧结研究和生产。主要技术参数如下：
1、额定温度：1600℃；
2、电源及功率：AC380V/10KW；
3、冷态极限真空度：6.67×10-2Pa；
4、可按用户要求定制。
热处理 ZK-10-16小型高温高真空电阻炉 真空烧结 材料实验
