蔡司显微镜Xradia Ultra 纳米级X射线成像
ZEISS/蔡司 品牌
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北京市所在地
蔡司显微镜Xradia Ultra 纳米级X射线成像能力的先进设备。这款设备结合了吸收衬度和相位衬度的功能,并通过使用由同步辐射光学器件改造而来的附件,使其在光子能量为5.4KeV时的纳米成像能力提高了10倍。
对于中低原子序数的样品,Xradia 810 Ultra的低能量特性能够实现更优质的衬度和图像质量。其无损分析步骤的加入,使这款设备在研究领域取得了重大突破。设备能够在5.4 keV下利用更高的衬度对许多难以成像的材料进行高分辨率的X射线成像。此外,它还可以利用吸收衬度和相衬技术来优化各种材料的成像,包括聚合物、氧化物、复合材料、燃料电池、地质样品以及生物材料等。
蔡司显微镜Xradia Ultra 纳米级X射线成像技术的引入,不仅提高了成像速度,还扩展了X射线成像在科学和工业领域的应用。无论是科学研究还是工业应用,这款设备都能提供高精度、高分辨率的X射线成像,为研究者提供丰富的材料信息和微观结构细节。
总的来说,蔡司Xradia Ultra纳米级X射线成像技术是一种先进的无损分析技术,具有广泛的应用前景。无论是在材料科学、地质学、生物学还是其他领域,它都能为研究者提供深入洞察材料特性和行为的能力,推动科学的进步。