CIF推出全新一代 CPC-G系列实验室型等离子体清洗设备， 传统等离子体清洗设备设计理念。具有较大的腔体尺寸和有效样 品处理面积， 使用成本低， 性价比高， 处理快速高效， 特别适合于大学， 科研院所和光电企业实验室小批量中试生产。

产品特点：

◆  7 寸彩色触摸屏中英文互动操作界面，自动控制监测工艺参数状态，20 个配方程序，工艺数据可存储追溯。

◆  PLC 工控机控制整个清洗过程，手动、自动两种工作模式。

◆  石英真空舱，真空管路系统采用 316 不锈钢材质，耐腐蚀无污染。

◆  采用质量流量计，实现对气体输入精准控制，改变传统浮子流量计控制气体流量不准确问题。

◆  HEPA 高效过滤，气体返填吹扫，防止二次污染。

◆  60 度倾角操作界面设计，符合人体功能学，操作方便，界面友好。

◆  顶置真空舱，上开盖设计，下压式铰链开关方式，开关盖方便。

◆  采用花洒式多孔进气方式，改变传统等离子清洗机单孔进气不均匀问题。

◆  上置式 360 度自由水平取放样品托盘设计，符合人体功能学，操作更方便。

◆  有效清洗面积大，可清洗最大直径 8 吋硅片。

◆  安全保护，舱门打开，自动关闭电源。

技术参数：