Nano-Master的远程微波等离子体化学气相沉积（PECVD）系统应用范围广泛，包含：

基片或粉体的等离子诱导表面改性

等离子清洗

粉体或颗粒表面等离子聚合

SiO2,Si3N4或DLC及其他薄膜

CNT和石墨烯的选择性生长

单晶或多晶金刚石生长

微波模块：NANO-MASTER高质量长寿命远程微波源，频率为2.45GH，微波发射功率可以自主调节，微波反射功率可通过调节降低至发射功率的千分之一以内。远程微波源，可实现无损伤缺陷的沉积或生长。

设备腔体：水冷侧壁，确保在高温工艺下腔体外表面温度控制在60℃内；在高温工艺进行过程中，等离子体被束缚在有限的体积内，不会对腔体造成刻蚀。

样品台：可自动加热到最高1200℃，PID精确控制，精度±1℃，跟微波电源的加热独立。高温工艺下可持续旋转，主动冷却。具有自动升降功能，可针对自动Load Unload下降样品台便于片托自动取出。

温度模块：通过系统参数实现衬底温度精确控制,在稳定的工艺过程中温度浮动不超过±10℃。利用双波长高温计实现对衬底的非接触式温度测量；样品台内部通过热电偶测量。

气体控制：根据需求最多可配置8路工艺气体，配备吹扫气路，利用氮气或是氩气对管路吹扫。淋浴头和气体环均匀设计，使得气体在高温工作状态下成分均一，流速稳定，不会对衬底造成扰动。

真空模块：腔室的极限真空度可达1*10-5Pa

样品传送模块：系统可以支持自动Load Lock实现计算机控制的自动进样和出片

控制模块：配备计算机控制系统，详细记录工艺过程中各项参数。具备安全互锁功能及4级密码授权访问控制。

以远程微波PECVD系统沉积金刚石薄膜为例，从甲烷、氢气或氩气的气体混合物中将多晶金刚石薄膜沉积到衬底上。沉积过程中的基片温度通常为800~900°C，通过双波长高温计测量。甲烷、氢气和氩气的浓度、功率和压力值可以改变，以产生各种金刚石膜纹理。因金刚石的许多特性：如化学惰性和稳定性，高导热性，高声速，高断裂强度，疏水性，耐磨性，生物惰性，其表面可功能化，并涂覆保形性等，使其成为许多应用的选择。应用包括MEMS/NEMS器件、摩擦学（机械和生物部件涂层）、热（散热器/扩散器）、切割工具、辐射传感器（电离辐射探测器/剂量计）、电化学应用（生化传感器）、光学（红外窗口、透镜、X射线窗口）和离子束剥离箔。