Ossila浸胶机

L2006Ossila浸胶机

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2024-10-25 14:32:15
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产地类别:进口;应用领域:食品,化工,地矿;
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进口
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食品,化工,地矿
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华仪行(北京)科技有限公司

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产品简介

Ossila浸胶机性能,内置软件操作简单,价格经济,是科研领域工作者理想的高品质涂胶工具。
浸胶式涂布是工业和科研领域应用广泛的薄片材料镀膜工艺。它可以控制基片从溶液中取出的速度,从而改变镀膜沉积膜的厚度。Ossila使用高精度电机,可以精准控制膜片提出速度-进而控制涂层厚度,保证良好重复性。
Ossila通过狭缝涂布机和注射泵的高精度平台,保证平台活动的高精准性,产生优质膜片,重

详细介绍

产品介绍

 

Ossila浸胶机性能,内置软件操作简单,价格经济,是科研领域工作者理想的高品质涂胶工具。

浸胶式涂布是工业和科研领域应用广泛的薄片材料镀膜工艺。它可以控制基片从溶液中取出的速度,从而改变镀膜沉积膜的厚度。Ossila浸胶机使用高精度电机,可以精准控制膜片提出速度-进而控制涂层厚度,保证良好重复性。

Ossila浸胶机通过狭缝涂布机和注射泵的高精度平台,保证平台活动的高精准性,产生优质膜片,重复性好-每次都能如您所愿。本产品提供为期2年的质保,为使用者提供更高的保障。

功能特征

 

· 高精度电机-Ossila浸胶机基于狭缝涂布机和注射泵电动平台,电机精度高,重复性好。每次进行样品涂布的时候都能获得相同的结果。

· 平滑运动-Ossila浸胶机采用微率步进电机,基片浸入和取出过程平滑精准,保证了优质的涂胶效果。

· 基片兼容性好-各种尺寸、形状和材质的基片都可以,兼容性好。

· 浸胶速度可设置范围广-Ossila浸胶机基片浸提速度设置范围宽,自0.01mm/秒至50mm/秒不等。只需一台浸胶机,可以实现不同厚度的涂胶效果。

· 形体小巧-Ossila浸胶机占地面积小,只需20 cm x 30 cm空间即可工作,适合大多数实验室。

· 坚固耐用,防滑式设计-防滑台脚设计,具有牢牢的抓地功能,浸胶机工作过程不会发生位移。

· 软件操作简单-Ossila浸胶机的内置软件用户界面友好,实验编程和参数设置非常简单。用户可以设置胶片浸入速度、停留时间、提出速度、干燥时间,整个浸胶过程都是可控的。

· 全彩显示屏-任何照明条件下、无论从任何角度,彩色显示屏都有良好的可识别性,视觉舒适性好。

· 内置安全措施-Ossila浸胶机内置软件有一个碰撞检测功能,为用户提供高级别的安全性。当基片或工作臂碰到涂胶机底座或烧杯底时可以被及时发现,系统自动使电机停止工作。这样大大降低了样品、玻璃容器或涂胶机本身受损的风险。

· 样品提出速度可变-样品提出速度在整个基片长度范围内可调整,以达到不同涂层厚度梯度效果,快速优化胶片厚度。

· 用户协议可保存-Ossila浸胶机可以存储20个不同的用户协议,将来可以随时调用,节省时间-尤其适用于多个科学家共用一台设备的非常繁忙的实验室。

· 快速释放夹-用户可以快速往工作臂上加样和卸样。

· 标尺的磁铁固位-夹子下方有内置磁铁块,可以很方便地将金属标尺固定到位,便于测量(标尺是标配)。

应用

 

· 自组装单层膜

· 溶胶

· 薄膜电子

· 蛋白涂层

· 气敏技术

· 微孔泡沫

· 高对齐纳线和纳米管阵列

· 定向结晶

· 其它领域...

软件功能

 

Ossila浸胶机内置软件(不需外接电脑)可以实现手动和自动控制。手动涂胶情况下,用户可独立设置系统的样品浸入和提出。系统总共有10个用户自定义协议,每个协议可设置保存20个不同的步骤编程。

在自动涂胶情况下,用户可以独立设置胶片浸入和提出速度。如果用户需要的基片涂布厚度可变,用户可以在整个基片长度范围内对提出速度进行梯度设置。基片浸入时间、提出时间、干燥时间全程可控,用户可以通过重复循环功能进行重复操作。

另外,Ossila浸胶机个有多种内置安全特征,包括基于软件的碰撞探测功能。该功能探测到基片碰到杯底或涂布机底座时会自动使系统停转-保护用户安全,避免样品或烧杯损坏。

技术规格

 

小提取速度

0.01   mm.s-1

大提取速度

50 mm s-1

速度再现性

±0.01%   @ 1mms-1 ; ± 0.1% @ 10mm.s-1 ; ± 0.3% @ 50mm.s-1

长行程

100 mm

大循环次数

1000个循环

定时器长可设置时间

99:59:59 (时:分:秒)

内置软件特征

提出速度可变

重复循环

碰撞检测功能

程序数量

20

电源

DC   24V

产品整体尺寸

宽: 200 mm
高: 350 mm (450mm*展开)
长: 300 mm

运输重量

<   5kg

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