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英国Ossila公司匀胶旋涂仪,操作简单,方便实用,旋涂均匀,结构小巧紧凑,为实验室提供了理想的解决方案,其采用创新设计的非真空卡盘式旋涂吸盘,无需真空泵或充氮气,就能达到很好的旋涂效果。匀胶旋涂仪可对大小不同规格的基材都可进行旋涂,尤其是对超薄样品,即使基片厚度0.7毫米、0.55毫米、0.2毫米或更薄时同样能达到旋涂效果。不会出现真空吸盘旋涂较薄的基材衬底翘曲现象,影响涂层的均匀性。匀胶旋涂仪广泛应用于微电子、半导体、制版、新能源、生物材料、光学及表面涂覆等工艺。
Ossila匀胶旋涂仪控制和显示:
1.非常方便设定处理速度和加速度程序段;可设置顺序循环控制;
2.显示精度控制在设定值的0.006%以内
3.操作者可随时随地自由实现人机交互;
设备运转进程中,可随意向前,向后或者往返跳跃操作步骤;
循环指令,并可以重复操作;
在运转模式下也可以实时改变速度和加速度;
包含PC程序端接口;
可视化操作模型(化学试剂,传感器所见即所得的操作界面);
故障报警装置(可形象显明故障发生位置)。
匀胶旋涂仪技术性能