DOE掩膜，可消除不需要的高衍射级次光学

DOE掩膜，衍射光学元件掩膜

DOE掩膜，主要用于精密的控制大功率激光的孔径，它的结构是在玻璃基板上镀有一层很薄（~1μm）的图案反射涂层。

DOE掩膜的典型参数

衍射高级次消去膜通常分为两种不同类型的掩膜

一种是电介质反射掩膜

电介质反射掩模，英文名为Dielectric Reflective Mask，是在熔融石英的基底上，镀一层由非常薄（〜1um）的反射涂层图案。涂层部分反射入射光束，而未涂层部分透射光束。

电介质反射掩膜的特性：

针对单波长设计，高损伤阈值，低吸收率

反射部分，> 99％的高反射率

透明部分，> 95％的高透射率

很薄的掩膜层(~1um)

另一种是透射成像掩模

透射成像掩膜，英文名为Transmissive Imaging Mask，透射式掩模的特点是透射全部入射光，没有任何阻挡，透射掩模使用衍射图案以大角度漫射不需要的波段。

它的工作原理如下：

       中心有一个和反射式掩膜类似的透明区域，光线直接透过，周围区域具有衍射图案，使不需要的入射光以大角度出射。配合聚焦镜后焦平面放置的小孔，就可以阻挡大部分漫射光，从而达到阻挡多余激光的效果。

透射掩膜的特点：

不会有反射光的风险，导致损坏光学系统

~100％传输效率

比反射式掩模更高的激光损伤阈值

价格实惠

DOE掩膜的应用领域：

缩减传输区域，设置一个很小的传输区域

控制激光衍射图案的大小

DOE掩膜的型号规格：

DOE掩膜，衍射光学元件掩膜