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奥泰Metcal（OK）CVC/STTC 烙铁头
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奥泰Metcal（OK）MX 拆焊手柄
面议奥泰Metcal（OK）MX 系列焊接手柄
面议奥泰Metcal（OK）CV拆焊手柄
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奥泰Metcal（OK）CV手柄和套件
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奥泰Metcal（OK）-MFR-1350 拆焊和返修系统
面议奥泰Metcal（OK）BVX-200烟雾净化器
面议奥泰Metcal（OK）BVX-100 烟雾净化器
面议奥泰Metcal（OK）PS-900 焊台
面议奥泰Metcal（OK）MFR-1300 拆焊和返修焊台
面议奥泰Metcal（OK）MFR-1150 拆焊焊台
面议奥泰Metcal（OK）MFR-1100 系列焊台
面议Centrotherm 高温退火炉系统-Activator 150
Centrotherm Activator 150 高温炉设计用于SiC或GaN器件注入后退火。Centrotherm*工艺炉管和加热系统设，允许工艺温度达到 1850 ℃。
此外，Activator 150 系列的产品可以实现生长石墨烯生长。通过碳化硅升华生长石墨层可以获得高性能器件。
Centrotherm 新一代SiC工艺炉管的研发用以满足新兴的150 毫米 SiC工艺。
Centrotherm Activator 150-5 是为研发工作而特制的，而Centrotherm Activator 150-50专为大批量生产设计。
广泛的工艺范围实现了对自定义化程序的优化, 例如温度, 气路系统和压力。
SiC器件高温退火 （注入后）
GaN器件退火
大面积石墨烯生长
SiC表面制备
性能和优势
高活化
小表面粗糙度
最大温度可达 1850 ℃
