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Metcal（OK）奥泰MFR/PS 附件和备件
面议Metcal（OK）奥泰PTC/PTTC 烙铁头
面议Metcal（OK）奥泰SMTC 返修烙铁头
面议Metcal（OK）奥泰SMC/SMTC 返修烙铁头
面议Metcal（OK）奥泰HCV/HTC 烙铁头
面议Metcal（OK）奥泰STTC 烙铁头
面议Metcal（OK）奥泰STTC 烙铁头
面议Metcal奥泰-STTC烙铁头、CVC焊接烙铁
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奥泰Metcal（OK）CVC/STTC 烙铁头
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奥泰Metcal（OK）MX 拆焊手柄
面议奥泰Metcal（OK）MX 系列焊接手柄
面议奥泰Metcal（OK）CV拆焊手柄
面议Centrotherm 快速热工艺设备-RTP 150
德国Centrotherm公司是国际主流的半导体设备供应商，尤其在高温设备领域。Centrotherm RTP 150是一款高性能快速热工艺设备，主要用于满足研发和小规模量产所需的多种工艺要求。
RTP 150型快速热反应设备，采用紧凑型的真空腔室设计满足多种工艺需要，是一款可用于生产和研发用的单晶圆工艺设备。
RTP 150型设备包括一个带集成压力学习控制压力范围在1mbar至50mbar的真空腔室。采用灯管加热系统提供了可调节的加热均匀性控制，采用了CENTROTHERM公司技术的温度控制系统。
RTP系统可用于6寸晶圆和5寸石墨基板的加热。可在15分钟内更换基板的尺寸和类型。
设备用于高性能、小占地面积、低成本高工艺灵活性的工艺场合。
设备特点：
压力可控的真空或大气环境下工作
高灵活性：最大6寸硅片或其他材料
温度范围：20℃~1150℃
*加热的工艺温度可达 750℃
