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等离子清洗机采用气体作为清洗介质,有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。等离子表面处理机外接一台真空泵,工作时清洗腔中的等离子体轻柔冲刷被清洗物的表面,短时间的清洗就可以使有机污染物被*地清洗掉,同时污染物被真空泵抽走,其清洗程度达到分子级。
基本型等离子清洗机广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、生命科学、高分子科学、生物医学、微观流体学等领域。
基本型等离子清洗机应用:
1. 高分子材料表面修饰。
2. 清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。
3. 移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质。
4. 清洗ATR元件、各种形状的人工晶体、天然晶体和宝石。
5. 清洗半导体元件、印刷线路板。
6. 清洗生物芯片、微流控芯片。
7. 清洗沉积凝胶的基片。
8. 清洗电子元件、光学器件、激光器件、镀膜基片、芯片。
9. 牙科材料、人造移植物、医疗器械的消毒和杀菌。
10. 改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的
粘和力。
基本型等离子清洗机主要特点:
1. 紧凑台式设备、没有RF放射、符合CE安全标准。
2. 功率为低、中、高三档可调。
3. 基本型:
- 清洗腔:长6.5英寸,直径3英寸,腔盖可拆卸;
- RF线圈zui大施加功率18W;
- 1/8NPT针孔阀控制气流及腔体压力;
- 整机尺寸:8.5英寸H × 10英寸W × 8英寸D;
- 重量:13 lbs;
4. 选配件
- 石英等离子清洗腔;
- 气体流量混合器;
- 真空泵;
参考客户:
兰州大学 郑州大学 上海交通大学 上海复旦大学 合肥工业大学 成都电子科技大学 北京大学 清华大学
医工所 兰州化物所 中科院纳米所 等等
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