NRE-4000(ICPA)全自动ICP刻蚀系统

NRE-4000(ICPA)全自动ICP刻蚀系统

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2017-03-03 10:35:44
1160
产品属性
关闭
德国韦氏纳米系统(香港)有限公司

德国韦氏纳米系统(香港)有限公司

中级会员8
收藏

组合推荐相似产品

产品简介

NRE-4000(ICPA)全自动ICP刻蚀系统:自动上下载片,带ICP等离子源和偏压样品台的高速刻蚀系统,系统可以达到高速率、低损伤、高深宽比的刻蚀效果。可实现范围广泛的刻蚀工艺,包括刻蚀III-V化合物(如GaAs,InP,GaN,InSb)、II-VI化合物、介质材料、玻璃、石英、金属,以及硅和硅的化合物(如SiO2、Si3N4、SiC、SiGe)等。

详细介绍

ICP等离子刻蚀

NRE-4000(ICPA)全自动ICP刻蚀系统概述:自动上下载片,是带ICP等离子源和偏压样品台的高速刻蚀系统,具有高速率、低损伤、高深宽比的刻蚀能力。可实现范围广泛的刻蚀工艺,包括刻蚀III-V化合物(如GaAs,InP,GaN,InSb)、II-VI化合物、介质材料、玻璃、石英、金属,以及硅和硅的化合物(如SiO2、Si3N4、SiC、SiGe)等。

NRE-4000(ICPA)全自动ICP刻蚀系统主要特点:

配置内容:

应用领域:

 

上一篇:美国U.S.SEAL MFG密封PS-941V最快货期6-8周 下一篇:消防头盔阻燃性能试验机 说明方案
热线电话 在线询价
提示

请选择您要拨打的电话:

当前客户在线交流已关闭
请电话联系他 :