NRE-4000(ICPA)全自动ICP刻蚀系统

NRE-4000(ICPA)全自动ICP刻蚀系统

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2017-03-03 10:35:44
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产品简介

NRE-4000(ICPA)全自动ICP刻蚀系统:自动上下载片,带ICP等离子源和偏压样品台的高速刻蚀系统,系统可以达到高速率、低损伤、高深宽比的刻蚀效果。可实现范围广泛的刻蚀工艺,包括刻蚀III-V化合物(如GaAs,InP,GaN,InSb)、II-VI化合物、介质材料、玻璃、石英、金属,以及硅和硅的化合物(如SiO2、Si3N4、SiC、SiGe)等。

详细介绍

ICP等离子刻蚀

NRE-4000(ICPA)全自动ICP刻蚀系统概述:自动上下载片,是带ICP等离子源和偏压样品台的高速刻蚀系统,具有高速率、低损伤、高深宽比的刻蚀能力。可实现范围广泛的刻蚀工艺,包括刻蚀III-V化合物(如GaAs,InP,GaN,InSb)、II-VI化合物、介质材料、玻璃、石英、金属,以及硅和硅的化合物(如SiO2、Si3N4、SiC、SiGe)等。

NRE-4000(ICPA)全自动ICP刻蚀系统主要特点:

配置内容:

应用领域:

 

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