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NPD-4000(M)PLD脉冲激光沉积系统
面议NPD-4000(A)全自动PLD脉冲激光沉积系统
面议NMC-4000PAMOCVD等离子辅助MOCVD
面议NMC-3000 PAMOCVD系统
面议NMC-4000(M)PAMOCVD系统
面议NMC-4000(A)全自动PAMOCVD系统
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¥450000NPE-4000PECVD等离子增强化学气相沉积系统
面议NPE-3500 PECVD等离子体化学气相沉积系统
面议NPE-4000(M) PECVD等离子体化学气相沉积系统
面议NPE-3000 PECVD等离子体化学气相沉积系统
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面议原子层沉积技术
NLD-4000(ICPA)全自动PEALD系统概述:原子层沉积是一项沉积薄膜的重要技术,具有广泛的应用。ALD原子层沉积可以满足精确膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积,这方面ALD原子层沉积远超过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性不会带来影响,所以在ALD原子层沉积中有序、自限制的表面反应将会带来非统计的沉积。这使得ALD原子层沉积膜保持高度的光滑、连续以及无孔的特性,可以提供的薄膜性能。ALD原子层工艺也可以实现到大基片上。
NLD-4000(ICPA)全自动PEALD系统特点:NLD-4000(ICPA)是一款全自动独立的PC计算机控制的PEALD原子层沉积系统,带Labview软件,具备四级密码控制的用户授权保护功能。系统为全自动的安全互锁设计,并提供了强大的灵活性,可以用于沉积多种薄膜(如:AL2O3, AlN, TiN, ZrO2, LaO2, HfO2,等等)。应用领域包含半导体、光伏、MEMS等。NLD-4000(A)系统提供12"的铝质反应腔体,带有加热腔壁和气动升降顶盖,非常方便腔体的访问和清洁。该系统拥有一个载气舱包含多达7个50ml的加热汽缸,用于前驱体以及反应物,同时带有N2或者Ar作为运载气体的快脉冲加热传输阀。
选配:NLD-4000(ICPA)系统的选配项包含臭氧发生器,等等。
应用: