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NLD-3000原子层沉积系统
面议NPD-4000(M)PLD脉冲激光沉积系统
面议NPD-4000(A)全自动PLD脉冲激光沉积系统
面议原子层沉积系统
¥450000NLD-4000(ICPA)全自动PEALD系统
面议NLD-4000NLD-4000(ICPM)PEALD系统
面议NPE-4000PECVD等离子增强化学气相沉积系统
面议NPE-3500 PECVD等离子体化学气相沉积系统
面议NPE-4000(M) PECVD等离子体化学气相沉积系统
面议NPE-3000 PECVD等离子体化学气相沉积系统
面议NPE-4000(A)全自动PECVD等离子体化学气相沉积系统
面议NPE-4000(ICPM)ICPECVD等离子体化学气相沉积系统
面议NMC-4000PAMOCVD等离子辅助MOCVD
NMC-4000PAMOCVD等离子辅助MOCVD概述:
针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助金属有机化学气相沉积系统(PA-MOCVD),该系统具有加热的气体管路、5个鼓泡装置(各带独立的冷却槽)、950度样品台三个气体环、PC全自动控制、淋浴式气体分布的RF射频等离子源以及工艺终端的N2冲洗、 250l/sec涡轮分子泵及无油真空泵(5 x 10-7Torr极限真空),*的安全互锁。
目前,NANO-MASTER(那诺-马斯特)的这项技术延伸到5个4"晶圆的立柜式独立批处理系统,该系统可以集成到集群配置中以满足高产量的要求。
NMC-4000PAMOCVD等离子辅助MOCVD型号:
NMC-4000PAMOCVD等离子辅助MOCVD