产品简介
兆声晶圆清洗机：
First-Nano 兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及*进的兆声清洗。它可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。
详细介绍
SWC-4000兆声晶圆清洗：
SWC-4000兆声晶圆清洗机应用：
- 带图案或不带图案的掩模版和晶圆片
- Ge, GaAs以及InP晶圆片清洗
- CMP处理后的晶圆片清洗
- 晶圆框架上的切粒芯片清洗
- 等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗
- 带保护膜的分划版清洗
- 掩模版空白部位或接触部位清洗
- X射线及极紫外掩模版清洗
- 光学镜头清洗
- ITO涂覆的显示面板清洗
- 兆声辅助的剥离工艺
SWC-4000兆声晶圆清洗机的特点：
- 支持12"直径的圆片或9"x9"方片
- 独立系统
- 无损兆声,试剂，毛刷清洗及旋转甩干
- 微处理机自动控制
- 化学试剂滴胶单元
- 溶剂与酸分离排废
- 热氮
- 30"D x 26"W 的占地面积
SWC-4000兆声晶圆清洗机选配项：
- 掩模板或晶圆片夹具
- 臭氧清洗
- PVA软毛刷清洗
- 高压DI清洗
- 氮气离子发生器
客户可以根据基板尺寸的大小订制不同的兆声清洗系统，如有技术咨询，请及时：
