液相扩散技术（LDT）提供了各种 基材和表面材料的干燥性能性能增强。这种专有的干燥工艺及其它的系统控制生成超纯IPA气雾剂层，在静止的基板移动扩散去除水分，不留水印。Megasonic IPA dryer具有强大的工艺灵活性，可用于干燥高纵横比/深沟槽地形、半间距晶片间距，以及其他多种应用。

兆声波清洗不仅保存了超声波清洗的优点，而且克服了它的不足。兆声波清洗的机理是由高频振效应并结合化学清洗剂的化学反应对硅片进行清洗的。在清洗时，由换能器发出波长为1μm频率为0.8兆赫的高能声波。溶液分子在这种声波的推动下作加速运动，大瞬时速度可达到30cm/s。因此，形成不了超声波清洗那样的气泡,而只能以高速的流体波连续冲击晶片表面,使硅片表面附着的污染物的细小微粒被强制除去并进入到清洗液中。

Megasonic IPA Dryer 

清洗效果：