光刻曝光分析仪
光刻曝光分析仪

Model 659光刻曝光分析仪

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2024-02-23 13:53:48
730
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产地类别:进口;价格区间:5万-10万;应用领域:电子;
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产品属性
产地类别
进口
价格区间
5万-10万
应用领域
电子
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德国韦氏纳米系统(香港)有限公司

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产品简介

45年来,OAI始终是紫外能量测试仪器领域的*应用商,其仪器用于半导体、微机电系统、晶圆封装和晶圆植球行业中光刻工艺的可靠,精确校准控制。

Model 659是一款手持式紫外功率计,配有触摸屏和 USB 接口。通过使用特殊探头(365nm、400nm、420nm 和 436nm),可以测量主要用于步进应用的宽范围波长。

详细介绍

45年来,OAI始终是紫外能量测试仪器领域的*应用商,其仪器用于半导体、微机电系统、晶圆封装和晶圆植球行业中光刻工艺的可靠,精确校准控制。

Model 659是款手持式紫外功率计,配有触摸屏和 USB 接口。通过使用特殊探头(365nm、400nm、420nm 和 436nm),可以测量主要用于步进应用的宽范围波长。


             ●  多达400个曝光参数

             ●  以太网和USB接口,用于下载记录的测量值

             ●  强度范围达7500mW/cm2

             ●  强度分辨率:0.01mW/cm2

             ●  探头波长:365nm、400nm、420nm、436nm



Model 659 型曝光分析仪,与晶圆步进光刻机配合使用,专为Ultratech Stepper等高强度光刻设备而设计(读数高达7500mW/cm2,1000000mJ/cm2'',最长9999秒)。可选择探头光谱响应:365nm、400nm、420nm或436nm.


OAI_Model_659-Meter

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        OAI拥有完整的认证校准实验室,以确保仪器的性能,质量,和可靠性。Model 659 可追溯至NIST标准。

        


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