纳米氮化硅(Si3N4)与二硫化钼MoS2复合材料

 MoS2单层是一种直接带隙半导体材料，因其具有的光学、电输运、力学等物理性质，引起了国内外研究人员的兴趣。单层MoS2具有较高的光致荧光（Photoluminescence）量子效率以及较大的激子束缚能，使得在室温下实现基于激子的光电子器件成为可能。单层MoS2激子的发光性质不取决于其能带结构，还和载流子浓度有关。近期已有科研人员利用静电掺杂、物理吸附、化学掺杂等手段改变MoS2的发光性质，但是遇到了掺杂不易调控、效率不高等问题。同时，其原子的厚度（~0.65nm）了光与激子的相互作用，使得单层MoS2的发光以及吸收性质较弱。

纳米氮化硅(Si3N4)与二硫化钼MoS2复合材料

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