商品描述

【产品名称】1200℃-PECVD管式炉系统

【炉管尺寸】φ40--φ100mm

【加热区】300mm/440mm 

【额定温度】1200℃

【控温精度】±1℃ 

【应用领域】1200℃-PECVD管式炉系统（等离子增强化学气相沉积系统）由管式炉、真空获得、流量控制和射频电源四大模块组成，   本设备借助13.56Mhz的射频输出使含有薄膜组成原子的气体电离，在真空腔体内形成等离子体，利用等离子的强化学活性，改善反应条件，使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应，从而实现薄膜材料生长的一种新的制备技术，最终得到基片上沉积出所期望的薄膜。

性能特点：
CVD管式炉系统由管式炉、真空获得、流量控制和射频电源

管式炉可选择不同的管径和恒温区的长度，炉管两端装有高真空不锈钢密封法兰；

真空获得系统可根据试验要求选择不同的真空泵，旋片式机械真空泵真空度≤5pa，分子泵真空机组真空度1×10^-4pa；

气路供气系统可选择3路浮子手动和3路自动质量流量系统

真空测量为数字复合真空机或皮拉尼真空计

等离子体放电选择13.56Mhz的设备电源，功率输出可选择200W、300W和500W

管式炉可选择单温区300mm和440mm，也可选择三温区或多温区进行温度的梯度试验

温控器内置的RS485数字通信端口和USB适配器作为可选配置，可连接PC，用于系统的远程控制和监视，还可以保存或导出测试结果。

产品符合欧盟CE标准。