真空高温炉常规型号                          

SG-XS1200 高温度1200℃  SG-XS1400 高温度1400℃

SG-XS1700 高温度1700℃  SG-XS1800 高温度1800℃

常规炉膛尺寸（mm）    

100x100x100，200x150x150

300x200x200，400x300x300，500x400x400

 *其他马弗炉型号可以定制

　　真空高温炉是一种专业的试验设备，主要用于进行高温处理、热处理、熔炼、退火、固相反应、化学蒸汽沉积、薄膜制备等工艺的实验研究，广泛应用于材料科学、化工、机械、电子、能源等领域。下面我们将详细介绍真空高温炉的应用。

　　一、高温处理和热处理

　　高温处理和热处理是真空高温炉最主要的应用领域之一。高温处理是指将样品置于高温环境下，以改变其组织结构和材料性能的方法。真空高温炉可以达到1500℃以上的高温，是进行高温处理的理想设备。高温处理可以改变材料的结晶形态和结构，从而提高材料的硬度、韧性、抗拉强度、耐磨性等性能。常见的高温处理方法有固溶处理、時效处理、再结晶等，这些方法广泛应用于航空、汽车、核电等领域的新材料研究。

　　热处理是一种针对特定材料，通过加热和冷却来改变其性能和组织的方法。真空高温炉是进行热处理的理想设备，可以控制炉内温度、压力和气氛，避免材料与氧气等气体接触而发生氧化反应。热处理可以改善金属的机械性能、耐热性能、抗腐蚀性能，提高金属的耐磨性、韧性等。常见的热处理方法有正火、淬火、回火等，这些方法广泛用于钢铁、铝合金、铜合金、镍合金等金属材料的制造。

　　二、熔炼和固相反应

　　真空高温炉可以用于熔炼和固相反应的实验研究。熔炼是指将固体样品熔化后，通过调节温度和液态合金成分的方法，使材料达到理想的组成和性能。真空高温炉可以提供密封的高温环境，防止材料与外界气体接触，从而保证熔化过程中的材料组成和性能。熔炼通常用于制备合金材料或者复合材料，广泛应用于航空、汽车、超导等领域。

　　固相反应是指两种或多种化学物质在高温环境下发生化学反应，最终形成新的固态产物的方法。真空高温炉可以提供高温、真空和惰性气氛等条件，有利于反应的进行。固相反应通常用于制备无机非金属材料或者有机材料，广泛应用于光电子、半导体、光催化等领域。

　　三、化学蒸汽沉积

　　化学蒸汽沉积是一种化学气相沉积技术，利用气态前体将金属或者非金属元素沉积在衬底上制备薄膜。真空高温炉可以提供高温和真空条件，控制反应温度、沉积速率和成分等参数，有利于薄膜生长的控制和优化。化学蒸汽沉积广泛用于光电子、半导体、纳米材料等领域，制备各种新颖的薄膜材料。

　　四、其他应用

　　除了上述应用领域外，真空高温炉还可用于退火、晶体生长、热解、热压、氧气捕捉等实验研究。退火是指将材料在高温下保温一段时间，使其原子重新排列形成能量的状态，从而改变材料的性能和组织结构。晶体生长是指在高温下以特定的条件生长单晶体，主要用于半导体、光学等领域。热解是指用高温将有机物质分解，用于制备各种碳材料。热压是指在高温下将材料压缩成各种形状的坯料，用于制备各种精密部件。氧气捕捉是指利用高温将氧气分离出来，用于制备氧化物。

　　总之，真空高温炉是一种功能强大的试验设备，有广泛的应用领域。它可以提供高温、真空、惰性气氛等条件，用于进行高温处理、热处理、熔炼、固相反应、化学蒸汽沉积、薄膜制备等实验研究。真空高温炉的应用不仅促进了材料科学、化学、物理、机械、电子等领域的发展，而且为新材料的制备和应用提供了有力的支撑。

真空高温炉参数：