Nanosystem NV-1000白光干涉仪

WSI白光干涉/PSI相位干涉测量检测设备，利用白光干涉现象以及干涉信号处理方式，高精度真实还原测量物体的轮廓原貌，解决了测量高精度物体时，只能破坏测量物做切片的难题。

设备测量应用涵盖晶圆，液晶，等离子显示板，半导体，透镜曲率测量，印刷电路板等方面。纵向测量精度高达0.5nm/0.1nm（WSI/PSI）以下，平面测量精度高达到7.4nm以下。其高精度，广领域度，客户体验度，受到了高精制造行业的喜爱。

设备原理

WSI白光干涉和PSI相位干涉原理虽然测量原理不同，但是除了使用单频光和多频光这一点不同外，使用同样的光学和测量系统，因此可以在同一设备上进行使用。

两种测量方法共同的特征是利用干涉信号进行处理。干涉信号是从任意光源同时出发的两束光通过不同的光路后叠加时，根据两束光的光路距离差产生明暗相间的物理现象。WSI/PSI设备正是使用了以上原理进行测量。

WSI测量原理

WSI（White-LightScannng Interferometry）的特征

-在扫描范围内持续扫描后进行测量。

-在允许扫描的范围内可以测量高度。

PSI测量原理

PSI（Phase ShiftingInterferometry）测量原理

PSI的特征

-中心波长（大约600nm）的1/4为间隔，进行4回扫描后测量。

-与扫描范围无关，只能测量250nm以下的高度。

Nanosystem NV-1000白光干涉仪技术参数：

干涉物镜：单透镜可选

扫描范围：0-180um（270um可选）

垂直分辨率：WSI：﹤0.5nm ，PSI ：﹤0.1nm

倾斜台：±3°

Z轴行程：30mm（手动）

工作台面：50X50mm（手动）