HNJC-L4D熔片机（X荧光分析熔样法）技术特点：

可靠性高

HNJC-L4D熔片机（X荧光分析熔样法）是在老型号熔样机的基础上进行了产品升级的X荧光光谱分析全自动熔样机。可24小时连续*稳定运行，并成为X荧光用户的*配套产品。

效率高

该熔样机采用了四头独立式设计，适合中﹑小批量样品的制备。熔样一次成型或倒模成型可任意选择，是真正的全自动熔样设备。

熔样效果佳

该型号熔样机采用*的炉体双向摆动和样品架自旋同时进行的技术，确保样品熔体在炉膛内做涡流式运动，zui短的时间内达到*的均匀度和*的排气泡效果。

适合多种材料的不同温度下熔样

本机采用硅碳棒式加热，S型铂铑热电偶测温，液晶触摸屏+PLC+AI人工智能控制，全新智能化人机操作系统，具有故障自检、易于操作、运行可靠等特点，参数默认式设计，使操作更为简单、安全、自动化程度更高、控温更精确，多种材料不同温度下均可达到高质量的熔样效果，具有优良的分析再现性，能满足多种行业分析标准的要求。

多项保护功能

设计有多项保护功能，如断偶、超温等，当超温或超越限位行程时同样采用软硬件双重保护，从而保障设备*稳定运行。

HNJC-L4D熔片机（X荧光分析熔样法）技术指标：

◆优质特种耐火材料及电器元件，性能稳定,故障率低。

◆使用温度：0～1250℃（zui高1300℃）

◆升温速度：平均30℃/min（zui快45℃/min）

◆控温精度：保温时±2℃（S型铂铑热电偶测温）

◆熔样数量：4位（一次成型或浇注成型）

◆炉体摆动方式：双向摆动

◆炉体摆动角度：0～55°

◆托架旋转速度：0～25r/min（变频器无极调速、可正反向旋转）

◆内置9条可设置工作曲线

◆熔样时间的选择

预熔时间0～167min可选

熔样时间0～167min可选

静置时间0～167min可选

◆额定电流：30A

◆额定频率：50Hz

◆设备功率：8kw

◆仪器重量：设备总重380kg

◆长×宽×高：1120mm×620mm×1050mm

电源要求：加热电路单相380V  控制电路单相220V