NP-CMP-化学机械抛光液制备设备_抛光液制备设备-纳威科技（深圳）有限公司手机版

产品简介

化学机械抛光液制备设备主要用于CMP（化学机械抛光液）（包括基于氧化硅纳米颗粒的抛光液、氧化铈纳米颗粒的抛光液、碳化硅化学机械抛光液、氧化铝体系和硅溶胶体系的超精密加工类化学机械抛光液）的分散和各种微纳米材料、新能源材料、无机阻燃剂等的破碎、分散、分级、改性等。

详细介绍

化学机械抛光液制备设备主要用于CMP（化学机械抛光液）（包括基于氧化硅纳米颗粒的抛光液、氧化铈纳米颗粒的抛光液、碳化硅化学机械抛光液、氧化铝体系和硅溶胶体系的超精密加工类化学机械抛光液）的分散和各种微纳米材料、新能源材料、无机阻燃剂等的破碎、分散、分级、改性等。

化学机械抛光液制备设备的特点：

经过测试的工艺路线，已经实现量产

智能控制，实时监测，完整数据存储，直观显示图表

转速可调，温度可控，超声波强度可调，可定时

操作方便简洁，清洗容易

技术参数：

Items	实验型Experiment Type	生产型Production Type
温度Temperature（℃）	-30℃~80℃	-20℃~80℃
分散方式Dispersion Type	连续式continuous	连续式continuous
材质Material quality	玻璃、不锈钢、钛 glass or stainless steel	不锈钢、钛stainless steel
规格Specification	依容积depend on volume	定制customized
流量Flow rate	50~1000ml/min	可定制customized
介质粘度media viscosity	≤104cP	≤104cP
搅拌转速agitation speed	500~3000rpm依实际需求选择	500~3000rpm依实际需求选择
剪切转速agitation speed	1400~20000rpm依实际需求选择	1400~12000rpm依实际需求选择
电源Power	220V/50Hz	220V/50Hz 、380V/50Hz
超声功率Ultrasonic power	200~3000W	定制customized
超声频率Ultrasonic Frequency	20KHz、28KHz、40KHz、68KHz	20KHz、28KHz、40KHz、68KHz
显示方式Display model	数显、液晶触摸屏digital display,LCD touch screen 依据需要可选择	液晶触摸屏LCD touch screen
其它Others	温度、功率可调Temperature、power adjustment