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NP-CMP化学机械抛光液制备设备主要用于CMP（化学机械抛光液）（包括基于氧化硅纳米颗粒的抛光液、氧化铈纳米颗粒的抛光液、碳化硅化学机械抛光液、氧化铝体系和硅溶胶体系的超精密加工类化学机械抛光液）的分散和各种微纳米材料、新能源材料、无机阻燃剂等的破碎、分散、分级、改性等。
NP-CMP化学机械抛光液制备设备经过测试的工艺路线，已经实现量产The tested process route has achieved mass production ；
智能控制，实时监测，完整数据存储，直观显示图、表Intelligent control, real-time monitoring, complete data storage, intuitive display of charts and tables；
转速可调，温度可控，超声波强度可调，可定时Rotating speed adjustable， Temperature controlled， Ultrasonic intensity adjustable， Timed ；
操作方便简洁，清洗容易 Easy and simple operation，easy to clean。
NP-CMP化学机械抛光液制备设备 参数：
Items | 实验型Experiment Type | 生产型Production Type |
温度Temperature（℃） | -30℃~80℃ | -20℃~80℃ |
分散方式Dispersion Type | 连续式continuous | 连续式continuous |
材质Material quality | 玻璃、不锈钢、钛 glass or stainless steel | 不锈钢、钛stainless steel |
规格Specification | 依容积depend on volume | 定制customized |
流量Flow rate | 50~1000ml/min | 可定制customized |
介质粘度media viscosity | ≤104cP | ≤104cP |
搅拌转速agitation speed | 500~3000rpm依实际需求选择 | 500~3000rpm依实际需求选择 |
剪切转速agitation speed | 1400~20000rpm依实际需求选择 | 1400~12000rpm依实际需求选择 |
电源Power | 220V/50Hz | 220V/50Hz 、380V/50Hz |
超声功率Ultrasonic power | 200~3000W | 定制customized |
超声频率Ultrasonic Frequency | 20KHz、28KHz、40KHz、68KHz | 20KHz、28KHz、40KHz、68KHz |
显示方式Display model | 数显、液晶触摸屏digital display,LCD touch screen 依据需要可选择 | 液晶触摸屏LCD touch screen |
温度、功率可调Temperature、power adjustment NP(纳威科技)是一家研发、制备、定制微纳米、新能源等材料的反应、分散、整条产线等设备及清洗设备的高科技公司。 公司产品开发遵循“智能化、模块化、连续化、小型化”的设计原则，坚持“设计制造最合适的设备来满足用户的工艺条件”、和“真心为客户提供最佳的解决方案和服务”的理念，开发出来的系列微纳米材料合成、反应设备、微纳米材料高效分散设备广泛适用于纳米Ni、Ag、Cu、FePO4、MnO2、ZrO2、TiO2、Mg(OH)2、SiO2、磷酸铁、磷酸铁锂、三元等多种微纳米材料的从实验室研究、小试、中试放大、直到工业化规模生产应用。包括有：1、标准的实验室使用的反应设备、分散设备、搅拌设备、研磨设备、清洗设备等；2、定制各种实验室设备；3、定制实验室成套设备；4、定制中试设备；5、量产设备等。 | ||
