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等离子体纳米改良升级系统
产品特点:
等离子源采用频率为13.56MHz射频发生器,同时具备物理清洗和化学清洗能力。
电源功率为200W,覆盖常规处理需求
创新设计,可调整电极之间距离,调整等离子体浓度和强度,大提升处理效率和能力
真空腔体和管道连接件均采用316不锈钢,电极6061航空铝合金,配件材质精良,保证设备稳定高效运行
样品处理面积可达125mm(大处理面积可达200mm,如有需求请咨询销售人员)
4.3寸工业级触摸屏,操作简单,可设置多种实验参数
性能稳定可靠,质量稳定,自主研发,售后有保障
等离子体纳米改良升级系统
产品参数:
1. 真空腔规格: 316不锈钢腔体,直径210mm*(深)230mm 约4L
2. 电极:两个自适应平板电极,材质T6061铝合金
3. 电极尺寸:120*135mm 间距20~75mm 可调
4. 等离子体发生器:RF射频发生器,频率:13.56MHz
5. 功率:0-200W连续可调,精度1W
6. 气体控制:针式气体流量阀,标配1路气体
7. 控制方式:4.3寸工业控制触摸屏
控制软件功能:界面显示实时工作状态,
可显示设置值与实际值,便于实时控制。
可自由设置等离子功率,通入气体时间
全手动控制和全自动控制可选
8. 保护装置:一键急停保护按钮
等离子体表面处理系统Pluto-M参数(标准配置) | |||
外部尺寸 | 404*640*515mm | ||
真空腔尺寸 | 直径210mm*230mm | 不锈钢腔体 | |
电极尺寸 | 125*125mm | 多空自适应平板电极 | |
等离子体发生器 | RF射频发生器,频率:13.56MHz | 自适应阻抗匹配电源 | |
功率 | 0-200W连续可调 | 精度1W | |
真空计 | 热电偶真空计 0-1000mT | ||
供气 | 1路气体 | 6mm国标连接件(软管) | |
控制方式 | 4.3寸触摸屏 | ||
可 选 配 置 | |||
ALC | 纯铝腔体 | ||
RF-300 | 等离子体发生器 | 频率13.56MHz ,0-300W自动阻抗匹配电源 | |
可调电极 | 可调节电极间距 | 电极间距20-60mm可调,改变等离子体场浓度特性 | |
CM装置 | 沉积镀膜模块 | 用于改变表面特性: 1. 沉积CF材料,样品表面可以具有憎水的特性 2. 沉积含苯材料,样品表面起到绝缘防水的特性 3. 沉积含有羟基的材料,提高样品表面和其他材料的结合效果。 | |
GP装置 | 气体纯化装置 | ||
PPU | 粉体处理装置 | 用于处理微纳米级别颗粒 | |
气体收集装置 | 用于收集等离子体化学反应后的气体 | ||
小型氧气发生器 | 用于制备氧气,可取代氧气罐 | ||
气体混合装置 | 可以根据可以要求进行混气设计 | ||
感应耦合模块 | 感应耦合等离子体装置 | ||
加热电极模块 | 电极可以加热,室温~200度可调。 | ||
光谱仪模块 | 可以增加光谱仪的接口,检测等离子体光谱变化 | ||
电极转换模块 | 可以自由变换电极设计,样品可以放在射频电极上,也可以放在地电极上。从而实现不同的处理效果。 |