世伟洛克ALD原子沉积隔膜阀

世伟洛克是半导体芯片制造应用的行业技术壁垒和解决方案提供商，同时也是 ALD 阀门技术的鼻祖。我们的 ALD 超高纯 (UHP) 阀具有以下特点：
高速启动下的超高循环寿命
Cv 范围从 0.27 1.7
使用热动元件时，全浸没温度高达 392°F (200°C)
适合于采用标准 316L VIM-VAR 不锈钢阀体的 UHP 应用
模块化表面安装、卡套管对焊和 VCR 端接
电子或光学执行机构位置传感选购件

世伟洛克ALD原子沉积隔膜阀

 ALD 隔膜阀具有超长的使用寿命、高速的启动和高达 0.62 的流量系数，与热执行机构、位置传感器和电磁阀配合使用，可在原子层沉积应用场合实现佳性能。
规格
工作压力 真空 145 psig (10.0 bar) 
爆裂压力 3200 psig (220 bar) 
执行压力 50 90 psig（3.5 6.2 bar） 
温度 32° 392°F（0° 200°C） 
流量系数(Cv) 0.27 或 0.62 
阀体材料 316L VIM-VAR 不锈钢 
隔膜材料 钴基高温合金 
端接 
类型（尺寸） 内螺纹 VCR 面密封接头（1/4 in. 1/2 in.）
外螺纹 VCR 面密封接头（1/4 in. 1/2 in.）
模块化表面安装高流量 C 型密封（1.125 in. 1.5 in.