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ARPES 系统是一种定制的多室 UHV 系统,用于研究高温超导体的物理特性(电子能带结构)。
围绕中央径向分配室设计的多室系统,带有连接的分析室和辅助室,可满足真正的 UHV 条件(压力 <10 -10毫巴)下的样品运输需求。分析室中的基础压力 < 5*10 -11 mbar。
集成多种表面分析方法的多技术分析室;单色紫外光电子能谱 (UPS) 和 LEED。样品定位是通过一个稳定、高精度的 5 轴机械手进行的,所有轴都是电动的,用于自动表面映射。样品接收站配备了一个封闭循环氦低温恒温器,允许温度在 10 K 到 400 K 范围内变化。 mu-metal 室配备了一个半球分析仪,其中包含 2D 探测器,能量分辨率优于 0.5 meV,还包含一个单色紫外线光源和 LEED 系统。灵活的设计允许轻松修改以满足未来的科学需求
该系统的设计使其既可以在实验室中使用,也可以在同步加速器光束线上使用。分析仪水平安装,可轻松旋转 90 度。框架具有轻松的高度和 xy 调整,可快速轻松地再现对齐
配备离子源和质谱仪的单级制备室以及用于未来扩展的众多端口
装载锁定室,最多可装载六个带有内部烘烤设施的样品
用于 6 个样品架的储存室
AES ARPES EA15 EA15-HP50 IS 40C1 IS 40E1 ISS Kerr效应 MBE MBE Chamber MBE腔室 Prevac PREVAC 离子源 TPD/TDS UHV特高压多室分析系统 UHV表面科学分析系统 UPS UVS 40A2 XPS(ESCA) X 射线源 光电子能谱仪 光电子能谱测量仪 半球分析仪 半球能量分析仪 原子力显微镜 原子力显微镜分析 原子力显微镜分析系统 多层薄膜的原位实时磁光Kerr效应 无油真空泵 残留气体分析仪 真空光谱仪 真空室 真空油泵 真空泵 真空泵系统 真空测控装置 真空能量分析 真空能量分析光谱 真空腔 真空表面分析系统 离子源 表面分析系统 超薄磁性薄膜 高压光发射光谱特高压系统 高真空泵