nanoArch S140 10μm精度微纳3D打印系统是可以实现高精度大幅面微尺度3D打印的设备系统，它采用的是面投影微立体光刻（PμSL：Projection Micro Litho Stereo Exposure）技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统，将需打印图案投影到树脂槽液面，在液面固化树脂并快速微立体成型，从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件，完成样品的制作。该技术具备成型效率高、打印精度高等突出优势，被认为是目前最有前景的微纳加工技术之一。
nanoArch S140 10μm精度微纳3D打印系统是科研级3D打印系统，拥有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印层厚，可以兼顾微尺度和宏观样件的打印，从而实现超高精度大幅面的样件制作，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。
打印材料
通用型
丙烯酸类光敏树脂，比如HDDA，PEGDA等。
个性化
405nm固化波段的光敏树脂材料 ，支持透明树脂，柔性树脂，硬性树脂，纳米颗粒掺杂复合树脂，4D打印树脂，生物医疗树脂等，需适配不同的工艺和模型，不保证打印性能。
nanoArchR S140 10μm系统性能
