一、概述

IRE-200光学薄膜测厚仪是一款超高精度的外延层厚度测量设备，利用红外光谱经傅里叶变换进行快速分析，主要应用于Si、GaAs、InP、SiC、GaN等各类外延片的外延层厚度测量。

■ 单抛/双抛等多种模式选择支持；

■ 自定义mapping功能；

■ 高检测速率：Si标准外延片测量25点≤3min；

■ 高检测精度：≤0.01um 。

二、产品特点

1）设备采用高性能光源模块，光源稳定性好，信噪比高，覆盖范围7800-350cm^-1。

2）搭配自主研发算法软件，可精准快速地获取测量结果。

3) 搭配自主研发的mapping运动台，定位精准、测量速度快。

三、产品应用

 IRE-200广泛应用于半导体行业中Si、SiC、GaAs、InP、GaN等基底材料上外延层厚度的量测。

SiC EPI量测案例

技术参数