科研镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。
需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材。基片与靶材同在真空腔中。
蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面，通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。
科研镀膜机产品参数：
1.运行速度: 0.1-600 mm/min
2.行程: 100 mm,位移精度:±0.1 mm
3.额定线性推力: >50 N
4.浸渍时间:0-9999.9 s
5.重复镀膜间隔时间0-9999.9 s
6.重复镀膜步骤：1-999次,重复镀膜间隔时间:0-9999.9s
7.晶片选择尺寸：大长100mm
8.4.3寸全彩触屏，简单易用，标配触屏笔操作
9.结构紧凑，易于放置在手套箱内使用
10.自带帮助功能，对初次使用者提供使用向导功能
11.提供手动上下高度调节，方便位置设置
12.可命名存贮100组镀膜程序，方便随时调用
13.产品外形尺寸：227(W)*350(D)*416(H)
在DP100-BE基础上增加底部加热功能：
1.控温范围：室温到120℃(更高温度可定制)
2.高精密数显温控表控制，控温精度：±0.5℃
