产品名称:DS-2000/14G型光刻机
主要技术指标:
单次曝光面积:1.4mm×1mm;
大曝光基片:100mm ×100mm ;
对准精度:±0.8μm(半自动对准);
大胶厚:300μm(SU8胶);
自动逐场对焦;
分辨力:1μm;
X、Y、Z、θ四自由度电动位移台 ;
X、Y平移重复定位精度:0.65μm(3σ);
Z向运动精度:1μm。
DS-2000/14G型光刻机技术特点:
该机可采用紫外光、深紫外光、甚至更短波长的极紫外光作为光源,用DMD数字微镜阵列替代传统掩模板,采用积木 错位蝇眼透镜实现高均匀照明,并配备了双目双视显微镜和CCD图象对准系统(可同时使用),拼接获得大面积图形,曝光设定采用微机控制,菜单界面友好,操作简便。