北京格微仪器有限公司长期致力于打造以用户体验为中心的材料表征领域、材料表面改性等仪器设备研发制造，公司总部位于北京海淀中关村，有多名多年从事真空技术、电子光学、离子光学、表面物理、材料制备等技术人员联合发起，团队全部为硕士以上学历或高级职称，具备专业的表面分析、结构分析、原位分析等应用经验，在科研、产业等领域，沉浸多年，具备独立设计、项目承担、生产制造等综合能力。当前聚焦于具有自主知识产权并具备国际竞争力的电子显微镜样品制备设备，并在高校院所和产业单位得到青睐。
手套箱镀电极专用磁控溅射仪(手套箱镀电极)GVC-2000自动化程序控制，一键式操作，让镀膜更加高效。该设备采用触摸控制，外置泵组设计，采用平面磁控溅射靶设计，从而使试样在热效应最小的条件下得到溅射效果。
磁控溅射仪(手套箱镀电极)GVC-2000为扫描电镜用户在制样过程中提供了更广泛的选择,以便适用支持扫描电子显微镜所需的涂层要求。磁控射的原理是,在电场内在叠加一个磁场,这样电子在叠加场内做旋运动,行程很长,每个电子电离的气体分子比直流多很多很多,所以可以在低电压下,有较好的高空度。射产生同样的效果。但是因为磁控直空度相对高,所以膜的粒小,膜层着力好,吧材的利用率也高。在直流射过程中,样品的温升主要来自于负商子在电场作用下对样品的发击,在磁控射中,负离子都被场束缚了,所以基本没有对样品的轰击,所以温升基本没有,很适合温度敏感性的样品制备。
GVC-2000手套箱镀电极专用磁控溅射仪可用于：
1、纯氩、纯氮环境，使样品免受氧气、水蒸气或其他污染。
2、助力新型电池研究。
3、提供全套解决方案及交钥匙服务。
技术参数：
1、溅射靶头采用平面磁控靶设计；
2、系统采用单片机等微处理器控制，全数字显示；
3、彩色液晶屏显示，屏幕不小于5英寸；
4、最大溅射电流不小于45mA，最小溅射电流不大于5mA，步进量为1mA；
5、溅射真空度可任意设定，且最小调节量0.1Pa；
6、可存储不少于5种靶材的工作参数；
7、最长溅射时间不小于600秒；
8、具备电流保护和真空保护功能，在电流过大、真空度较差时保证设备安全；
9、极限真空优于1Pa；
10、可实时显示靶材使用时间和设备工作时间；
11、可用实时曲线显示溅射电流和真空度。
