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4真空立式淬火炉OTF-1200X-4-VTQ
面议1700℃ 8升氢气炉KSL-1700X-H2
面议可滑动RTP炉 OTF-1200X-4-RTP-SL
面议1200℃单管滑动快速加热冷却炉OTF-1200X-80SL
面议1200℃双管滑动式四通道混气CVD系统OTF-1200X-4-C4LV
面议生长纳米线CVD炉OTF-1200X-4-NW
面议800℃高压炉OTF-1200X-HVHP-80
面议800℃双温区高压炉OTF-1200X-II-HVHP-80
面议1100℃高压炉OTF-1200X-60UV
面议1100℃高压炉OTF-1200X-HP-55
面议真空热压炉OTF-1200X-VHP4
面议RC-Ti-100小型钛金属反应釜
面议
产品型号 | 4″高真空RTP炉OTF-1200X-4-RTP-HV |
主要特点 | 1、石英样品架固定在滑动法兰上,使样品装载更加容易。 2、样品架上放置76mm的AlN基片,承载需要退火的样品。AIN具有很高的热导率,可使样品放置的区域有很 好的温度均匀性(± 5℃)。 3、内插式热偶保证了温度的准确性。 4、采用PID自动温度控制,30段程序,并设有过热和断偶保护功能。 5、已通过CE认证。 |
技术参数 | 1、电源:炉体单相208-240V,50/60Hz,10KW;高真空系统AC110V/220V任意切换,50/60Hz,110W 2、炉体结构:双层莫来石钢构 3、石英管:外径Φ110mm,内径Φ103mm,长380mm 4、样品架:76mm 5、加热元件:8根红外灯管,灯丝长200mm,丝圈Φ10mm,灯长300mm 6、加热区:102mm×305mm,均匀性±5℃ 7、热偶:K型热偶 8、温度:zui高温度1100℃,额定温度1000℃,在1000-1100℃下保温时间不得超过600s 9、控温精度:±0.5℃ 10、zui快升温速度:RT-800℃内50℃/s,800-1000℃内10℃/s 11、高真空系统气动时间:2min 12、真空度:6.3×10-5mbar(在40min中) 13、真空法兰:KF-D25,配有两个高温O型圈密封 14、流量计:16-160ml/min 15、前级泵流速:在10mbar状态下3.8L/min,50Hz;4.4L/min,60Hz |
产品规格 | 炉体:尺寸760mm×330mm×530mm,重量50kg 高真空系统:尺寸:600mm×600mm×700mm,重量18kg |