4″高真空RTP炉OTF-1200X-4-RTP-HV

OTF-1200X-4-RTP-HV4″高真空RTP炉OTF-1200X-4-RTP-HV

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2016-04-12 10:58:28
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沈阳科晶自动化设备有限公司

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产品简介

4″高真空RTP炉OTF-1200X-4-RTP-HV 是一款精巧型快速热处理管式炉,配有4″石英管及高真空系统(机械泵+分子泵), 是专为半导体或太阳能电池基片(Z大3″)的退火而设计。本机采用10KW红外灯管加热,Z快升温速度为50℃/s,设有30 段温度控制,精度为±1℃。此外,通过RS485口和控制软件可在计算机上实现实时控制和温度曲线显示。

详细介绍

 

产品型号

  4高真空RTPOTF-1200X-4-RTP-HV

主要特点

  1、石英样品架固定在滑动法兰上,使样品装载更加容易。

  2样品架上放置76mmAlN片,承载需要退火的样品AIN具有很高的热导率,可使样品放置的区域有很            好的温度均匀性(± 5℃)。

  3内插式热偶保证了温度的准确性

  4、采用PID自动温度控制,30段程序,并设有过热和断偶保护功能。

  5、已通过CE认证。

技术参数

  1源:炉体单相208-240V50/60Hz10KW;高真空系统AC110V/220V任意切换,50/60Hz110W

  2、炉体结构:双层莫来石钢构

  3、石英管:外径Φ110mm,内径Φ103mm,长380mm

  4、样品架:76mm

  5、加热元件:8根红外灯管,灯丝长200mm,丝圈Φ10mm,灯长300mm

  6加热区102mm×305mm,均匀性±5

  7、热偶:K型热偶

  8、温度:zui高温度1100℃,额定温度1000℃,在1000-1100℃下保温时间不得超过600s

  9、控温精度:±0.5

  10、zui快升温速度:RT-800℃内50/s800-1000℃内10/s

  11、高真空系统气动时间:2min

  12、真空度:6.3×10-5mbar(在40min中)

  13真空法兰:KF-D25配有两个高温O型圈密封

  14、流量计:16-160ml/min

  15、前级泵流速:在10mbar状态下3.8L/min50Hz4.4L/min60Hz

产品规格

  炉体:尺寸760mm×330mm×530mm重量50kg

  高真空系统:尺寸:600mm×600mm×700mm,重量18kg

 

 

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