1200℃双管滑动式四通道混气CVD系统OTF-1200X-4-C4LV
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1200℃双管滑动式四通道混气CVD系统OTF-1200X-4-C4LV

OTF-1200X-4-C4LV1200℃双管滑动式四通道混气CVD系统OTF-1200X-4-C4LV

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2016-04-12 10:51:21
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沈阳科晶自动化设备有限公司

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产品简介

1200℃双管滑动式四通道混气CVD系统OTF-1200X-4-C4LV是专门为在金属箔表面生长薄膜而设计的,特别是应用在新一代能源——柔性金属箔电极方面的研究。

详细介绍

 

产品型号

  1200℃双管滑动式四通道混气CVD系统OTF-1200X-4-C4LV

主要特点

  1采用高纯氧化铝保温材料,保证了*的温度均匀性。

  2内炉膛表面涂有美国进口氧化铝涂层,可以提高反射率和保护炉膛洁净度

  3采用PID控制器 ,可以设置30段升降温程序。

  4金属箔缠绕在内管的外表面上发CVD反应

  5采用双管真空密封法兰,允许反应气体通过两管之间(10mm间隙)。

  6冷却气体直接通入内管。

  7配有KF25快接和波纹管的高速机械泵。

  8炉底部装有滑轨,炉体可从一端滑向另一端,从而实现快速升温和降温。为了获得较快的加热速度,可以 

        先将炉体预热,然后滑至放置样品处;为了获得较快的冷却速度,可将炉体滑至另一端,同时将冷气通入 

        样品所在处

  9封法兰系统采用不锈钢制作。

  10通过CE认证。

技术参数

  管式炉

  1电源:单相AC 208-240V   50/60Hz  2.5KW 20A保险丝)

  2、石英管:外管外径Φ100mm内径Φ96mm,长1400mm

                        内管外径Φ80mm内径Φ75mm,长1400mm

  3、加热元件:掺钼铁铬铝合金电阻丝(表面涂有氧化锆)

  4、加热区域:440mm

   5、恒温区域:120mm(±1℃在400-1100℃)

  6工作温度:zui高1100连续工作1000

  7、zui大升降温速率:20/min

  8、控温精度:±1

  9、真空度:10-2torr(机械泵),10-5torr(分子泵)

  质量流量混气系统

  1、质子流量计:4路精密质子流量计,数字显示,气体流量自动控制

                                MFC1范围0-100sccmMFC2范围0-200sccmMFC3范围0-200sccmMFC1范围0-500sccm

  2、流量精度:0.2%

  3、气路:4路(每个气路都有一个独立的不锈钢针阀控制)

  4进出气口:1/4卡套

  5、混气罐:1

产品规格

  尺寸:管式炉550mm×380mm×520mm,移动架600mm×600mm×597mm

  重量:135kg

可选配件

  1、分子泵

  2、双温区管式炉

  3、铜箔(生长石墨烯150mm×150mm×25µm

 

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