该摩擦机是为LCD研发实验室开发的。该系统旨在追踪聚酰亚胺上的凹槽以定向液晶分子。凹槽使用深度为几埃的特殊摩擦布制成。基板由真空吸盘保持，真空吸盘包括真空泵并与系统集成。HO-IAD-BTR-02型中可装载的玻璃基板的大尺寸为200mm直径。基板和真空卡盘被固定在旋转台上，以便在不同的摩擦方向上以±20度的任何所需角度旋转和定位。

该系统被开发为一个独立单元，其中主轴的速度和基板的速度可以变化。

特性

● 可倾斜调整，以调平基板。

● 可用于调整高度的垂直平台。

● 真空释放按钮

主要参数

● 基板平台

a) 电动线性平台

b) 步进电机驱动

c) 行程: 300 mm

d) 小速度: 0.05 mm / s

大速度: 6 mm / s

e) 可移动基材的大尺寸: 直径200mm

f) 基板固定在可旋转+/-45度的旋转台上

g) 可选项： 可选择配置基材加温卡盘，可加热到155度。

●摩擦轮执行器: 无刷直流电机带速度控制

大速度: 3000 rpm

小速度: 0 rpm

● 在液晶显示屏上显示速度

● 通过旋钮来控制主轴的速度

● 电源输入: 230 VAC

● 该系统可以在独立模式下使用

仪器体积小，可直接放置于实验台面。