MKS Revolution RPS AX7690 远程等离子源提供半导体晶圆加工所需的高性能和清洁的反应气体源。创新的 R*evolution 是专门为“onwafer”应用设计的远程等离子体源新系列中的产品，它结合了 MKS 经现场验证的低场环形等离子体技术和强大的等离子体施加器设计，可产生超洁净的原子中性粒子或部首。

原子自由基在许多工艺中都是十分重要的，例如光刻胶去除、晶圆预清洗以及薄膜氮化和氧化。自由基通常是通过产生等离子体而产生的。然而，相关的带电粒子有时是不受欢迎的。为了避免这些不利影响，在外部产生等离子体并将自由基有效地输送到处理室。

MKS Revolution RPS AX7690 远程等离子源 反应气体发生器将石英真空室、射频电源和所有必要的控制装置集成到一个紧凑、独立的单元中，以便轻松直接安装在工具的处理室上。其结果是获得极其清洁的原子自由基源，从而在晶圆上产生所需的反应，同时大大降低了复杂性。R*evolution 远程等离子体源可提供高达 6 kW 的等离子体功率，为工艺提供高自由基流量（高达 5 slm），从而使剥离或蚀刻速率比传统微波系统快两倍。由于其效率高且成本较低，R*evolution 远程等离子体源可显着降低总体投资和工具运营成本。此外，其较小的尺寸和简单的设计有利于用户轻松安装、操作和维护。