HWN-L6新型纳米激光直写系统

HWN-L6新型纳米激光直写系统

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2024-01-25 11:37:26
632
属性：
应用领域:化工；激光波长:405nm；特征尺寸:100nm；激光功率:120mW至300mW（可选）；芯片尺寸:6英寸；刻写范围:50mm×50mm至100mm×100mm（可选）；
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产品属性
应用领域
化工
激光波长
405nm
特征尺寸
100nm
激光功率
120mW至300mW（可选）
芯片尺寸
6英寸
刻写范围
50mm×50mm至100mm×100mm（可选）
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苏州华维纳纳米科技有限公司

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产品简介

HWN-L6新型纳米激光直写系统是一款大面积、高精度、可套刻、超衍射极限加工的激光直写系统，可用于晶圆尺寸的大面积微纳加工，适用于各种微纳结构和器件制造、小批量微纳器件生产等。该系列包括L50、L100等不同型号，具有功能强大、维护简单、加工分辨率高、支持多种刻写模式、支持多种受体材料等特征。本系统在设计之初保留了充足的物理空间和硬件资源，以满足后续功能升级换代的需求，使产品具有更长的生命周期

详细介绍

HWN-L6新型纳米激光直写系统擅长wafer尺寸的研究开发和小批量生产

HWN-L6新型纳米激光直写系统是一款大面积、高精度、可套刻、超衍射极限加工的激光直写系统，可用于晶圆尺寸的大面积微纳加工，适用于各种微纳结构和器件制造、小批量微纳器件生产等。该系列包括L50、L100等不同型号，具有功能强大、维护简单、加工分辨率高、支持多种刻写模式、支持多种受体材料等特征。另外，本系统在设计之初保留了充足的物理空间和硬件资源，以满足后续功能升级换代的需求，使产品具有更长的生命周期。

苏州华维纳纳米科技有限公司于2011年注册成立的高科技创新型公司，主要从事新型纳米光刻技术和无掩模纳米光刻机的研发和产业化工作。






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