日本Hisol离子溅射设备表面涂覆抗静电涂层 G20 特点介绍

该台式溅射设备非常适合在样品表面涂覆抗静电涂层，例如对非导电样品进行 SEM 观察时。

精致、紧凑的设计和

带触摸屏的简单用户界面

确保舒适的操作性。

无需惰性气体

一键执行从吸尘到涂层的所有操作

将条件保存到库（最多 10 个）

最多可同时处理 7 个样品

减少低电流对样品的损坏

Au、Ag、Pt成型（最大50mmφ）

一套主体+泵+1个目标

即可立即使用

日本Hisol离子溅射设备表面涂覆抗静电涂层 G20 规格参数

外形尺寸350×210mm（高230mm） 

体重10公斤 

电源110V±10%，50/60Hz 

离子电流1~10mA（1mA/步） 

溅射时间1 至 600 秒（1 秒/步）*约15nm成型，10mA，100秒 

靶材金、银、铂（50mmφ/99.99%） 

腔室尺寸140mmφ(H100mm) 

兼容的样本量50mmφ(H30mm) 

该台式溅射设备非常适合在样品表面涂覆抗静电涂层，例如对非导电样品进行 SEM 观察时。

精致、紧凑的设计和

带触摸屏的简单用户界面

确保舒适的操作性。

无需惰性气体

一键执行从吸尘到涂层的所有操作

将条件保存到库（最多 10 个）

最多可同时处理 7 个样品

减少低电流对样品的损坏

Au、Ag、Pt成型（最大50mmφ）

一套主体+泵+1个目标

即可立即使用