高精密光学镀膜机膜厚可以通过时间精确控制，满足设计工艺要求，省去了晶控和光控环节，为客户节省了大量的膜厚仪耗材；可以产生高折射率氮化物薄膜，提高薄膜的硬度；低温成膜，可用于多种用途；自动调节气体流量的装置，保持稳定的靶电压，保证成膜质量。
高精密光学镀膜机的模块化设计可与等离子体清洗单元、磁控溅射单元、等离子体增强化学反应单元、原子层沉积单元和等离子体化学反应刻蚀单元组合，扩展为集群式微纳加工中心，覆盖半导体微纳结构加工的衬底清洗、薄膜沉积(包括超薄膜)和图形化刻蚀的全过程。满足严格的薄膜沉积均匀性规范，减少高应力薄膜的缺陷，提高产量，降低成本。ICP辅助磁控溅射的光学膜层低吸收、低应力，加工各种带通膜和截止膜，如面状、中远红外高透射比膜；磁控溅射各种金属，如铜、铝、铬、金、银、SUS等。已经被开发来改善深孔涂层。该涂层具有良好的台阶覆盖性，适用于MEMS芯片封装。
1、保证了高精度光学器件的高通量和可靠的批量生产。
2、保持优异的膜特性，例如均匀性、热稳定性和吸湿性。
3、能够满足消费电子产品、汽车传感器和电信配件中过滤器专用涂层的规格。
4、新颖的溅射配置和双旋转磁控管的组合提供了竞争优势，例如工艺稳定性、低的粒子数、最少的维护时间和拥有成本。
5、采用载体系统，其生产灵活性使其生产率提高了50%。
6、配备原位单色或宽带光学监控系统，用于监控沉积和薄膜工艺，即使对于数百层的层压设计，也可以避免频繁的校准和测试运行。
7、高精密光学镀膜机可以沉积非常致密且无位移的层，该层几乎没有固有粗糙度和低至±0.2%的均匀性。
